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无掩膜光刻技术原理?

180****1487
掩膜作品权
提问时间:2022-03-04 12:50:08
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回答 | 共1个
文珊珊
文珊珊
从业9年
商标宽展商标异议申请商标注册
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无掩膜光刻是一类不采用光刻掩膜版的光刻技术,即采用电子束直接在硅片上制作出需要的图形。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外,无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式,无掩膜光刻其具备分辨率高、成本较低等优势,但也存在着生产效率低、电子束之间的干扰易造成邻近效应等缺陷

2022-03-04 14:16:09
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张垂斌顾问
擅长:商标设计,商标转让,专利转让
执业1年
咨询专业顾问
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