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光刻胶与烛刻液的区别?

135****6502
光刻胶怎么去除
提问时间:2022-08-27 17:29:20
提示:以下回答均以本问题为中心,仅供参考;如需更多帮助,请咨询早鸽顾问。 去咨询
回答 | 共1个
王宝珠
王宝珠
从业11年
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咨询TA

通俗的讲,光刻胶通过光照曝光留下微纳结构图形,刻蚀,沉积将此图形进一步画到硅基板上。

光刻胶以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺,就可进一步将此图案转移到光刻胶下面的衬底上,最后再使用除胶剂将光刻胶除去就可以了。

2022-08-27 18:48:21
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李杨智卿顾问
擅长:公司注册,个体工商户,高新认证
执业1年
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